高纯铝靶材介绍

2023-05-19
铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。
物理性质


元素符号
Al靶材
元素符号
Al靶材
相对分子质量
26.98
蒸发潜热
11.4
原子体积
9.996*10-6
蒸汽压
660/10-8-10-9
晶型
Fcc面心立方
电导率
37.67
堆积密度
74%
电阻系数
+0.115
配位数
12
吸收光谱
0.20*10-24
密度
2.7
可压缩性
13.3mm2/MN
弹性模量
66.6Gpa
熔点
660.2
剪切模量
25.5Gpa
沸点
约2500



适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铝靶材的价格较低，所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料


靶材名称
铝靶材
常用纯度
99.9%（3N)
99.99%(4N）
99.999%（5N)
99.9999%(6N）
常用尺寸
100*40mm
**尺寸
长3000mm

lv靶材.jpg铝靶材.jpg

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