ITO靶材（Indium-Tin-Oxide，氧化铟锡）是一种新型半导体氧化物陶瓷材料，主要用于磁控溅射制备高性能ITO光电薄膜，广泛应用于新型显示、电磁屏蔽、半导体光伏等领域。

按照形状分类 ·

氧化铟锡靶材按形状可以分为ITO旋转靶材和ITO平面靶材。

ITO旋转靶材因其管状特性，具有较高的利用率（80%左右），广泛用于太阳能光伏领域。

· 按致密度分类 ·

按致密度可以分为高密度ITO靶材和低密度ITO靶材。

低密度ITO靶材多用于LED发光二极管透明电极。

高密度ITO靶材多用于高世代面板产线的TFT面板及OLED面板，ITO薄膜具有良好的导电性和透光性，可作为各种显示屏和触摸屏的透明导电电极。

· ITO靶材的制备方法 ·

ITO靶材的制备方法有很多种，主流制备ITO靶材的烧结方法有常压烧结法和热压烧结法两种，两种烧结制备方法各有优势。

热压烧结ITO靶材，需要将成型的靶材装入热压烧结炉中，通过加热加压烧结ITO靶材。加压状态下的烧结方法能在相对低的烧结温度下获得密度较高、晶粒细小的ITO靶材

常压烧结工艺具有程序简单、安全性高、易维护、无高压气体泄漏危险等优点，能在常压或者低压氧氛围状态下使靶材素胚收缩致密化。常压烧结法制备ITO靶材工艺流程为制粉—成型—烧结—机加工—铜背靶绑定。

以上就是今日小编为大家介绍的高温合金，感谢大家耐心地阅读！